㈜덴티스(대표 심기봉)가 26일 나노 표면에 대한 신기술을 인증을 통해 임플란트 표면에 대한 기술성과 혁신성을 인정받았다<사진>.

덴티스와 한국전기연구원 공동연구에 따라 함께 신기술로 인증받은 나노 표면 기술은 자연치아의 치근에 해당하는 임플란트 표면에 100~200nm 크기의 나노딤플과 약 10nm 기공을 형성시키는 표면처리 방식으로 임플란트 식립 후 열악한 골질에서도 치유가 빠른 골 융합을 보이는 혁신적인 기술로 평가받고 있다.

최근 이슈가 되고 있는 덴티스 임플란트의 클린 공정에 이어 나노 표면 기술을 적용한 새로운 표면의 임플란트가 올해 말 출시를 앞두고 있어 덴티스 임플란트에 대한 새로운 이슈가 될 것으로 기대된다.

덴티스는 나노 표면 기술 접목으로 제조 공정상 환경오염이 최소화되어 클린(Clean)을 넘어선 청정(Purity) 공정으로 한 단계 진일보할 것으로 기대되며, 무독성 친환경 방식으로 제조과정부터 예후까지 더욱 안전성을 강화했다고 밝혔다. 이번 신기술 인증받은 나노 표면 임플란트는 서울대치과병원 중개임상시험센터와 함께 임상 검증을 진행한 후, 내후년 출시를 목표로 하고 있다.

덴티스는 클린 공정과 나노 표면 신기술을 통한 임플란트에 대한 기술 투자와 더불어 최근 다양한 연구회와 함께 임상연구 및 세미나에 대한 투자를 통해 ‘덴티스 임플란트’의 제품력과 신뢰성을 견고히 하고 있다.

김윤아 기자 다른기사 보기